거절결정(특)

판결 【판시사항】발명의 진보성 판단 【사안의 개요 및 쟁점】 원고는 이 사건 특허발명의 제1항 내지 제9항 발명이 비교대상발명 1 내지 4의 결합에 의해 쉽게 발명할 수 있다고 주장하며 이 사건 특허발명에 대한 무효심판을 청구하였으 나, 특허심판원은 이 사건 제1항 내지 제9항 발명은 비교대상발명 1 내지 4의 결합에 의 하여 그 진보성이 부정되지 않는다는 이유로 위 심판청구를 기각하는 심결을 하였다. 이 에 원고가 심결의 취소를 구하는 이 사건 소를 제기하면서 비교대상발명들과는 다른 새 로운 선행발명 1, 2를 제출하면서 이 사건 특허발명의 제1항 내지 제9항 발명은 선행발 명 1, 2의 결합에 의하여 그 진보성이 부정된다고 주장하였다. 【판결요지】청구기각 1. 이 사건 제1항 발명과 선행발명들의 기술분야 이 사건 제1항 발명과 선행발명 1은 모두 웨이퍼 가장자리에 퇴적된 파티클을 제거하 기 위한 플라즈마 에칭 챔버에 관한 것으로 그 기술분야가 동일하다. 선행발명 2는 반 도체 웨이퍼를 처리하는 플라즈마 에칭 챔버에 관한 것으로 이 사건 제1항 발명 및 선 2. 진보성 49 행발명 1과 에칭 부위가 다를 뿐 기본적인 메커니즘에서 동일하다고 할 수 있으므로, 선행발명 2 역시 선행발명 1과 실질적으로 그 기술분야가 동일하다. 2. 해당 기술분야의 통상의 기술자의 기술수준 이 사건 특허발명 명세서에는 종래기술로 웨이퍼 가장자리를 플라즈마 에칭으로 세정 하는 기술이 개시되어 있고, 이 사건 특허발명의 우선권 주장일 이전에 공개된 웨이퍼 가장자리를 세정하는 플라즈마 에칭 챔버가 개시되어 있으므로, 이 사건 특허발명의 기술분야에서 웨이퍼 가장자리 영역에 의도하지 않은 불순물이 축적되는 것을 방지하 기 위하여 웨이퍼의 가장자리 부분에만 플라즈마를 발생시켜 건식 세정하는 방법이 이미 이용되고 있

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